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ERP實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)要點(diǎn)
因變量:峰值,平均波幅,潛伏期,RT,頭皮分布,正確率
自變量:左右半球,前后半球
所以實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)的自變量不超過2~3因素
注意:
足夠多的疊加次數(shù):每個(gè)條件至少35+,60合適,任務(wù)難:100個(gè)
要觀察的成分的特點(diǎn):P1,P3
數(shù)據(jù)的質(zhì)量
正確率
總實(shí)驗(yàn)的長(zhǎng)度
刺激呈現(xiàn)時(shí)間的設(shè)定:
在滿足實(shí)驗(yàn)?zāi)康牡那闆r下盡量縮短時(shí)間
刺激間隔:SOA,ISI,ITI
常見刺激類型:沒記到啊==b
視角:A=360/2π * r/d ≈ 57.3 * r/d (r:屏長(zhǎng),d=被試~顯示屏距離)
ERP成分介紹2
命名:根據(jù)(正-P/負(fù)-N)+ 出現(xiàn)的順序/潛伏期
分類:潛伏期:早、中、晚成分
物理或心理意義:外源性成分vs 內(nèi)源性成分
腦電成分:RP,N400,P600
RP:recognition potential prof. Alan P. Rudell 1990
有可識(shí)別的視覺刺激誘發(fā)的200~300ms的負(fù)電位
視覺刺激的可辨認(rèn)性是誘發(fā)RP的必要條件
RP出現(xiàn)的條件:
RP的出現(xiàn)與視覺刺激的可辨認(rèn)性有關(guān),與刺激的屬性無(wú)關(guān),如發(fā)光強(qiáng)度,視網(wǎng)膜面積,呈現(xiàn)時(shí)間,字體,重復(fù)性等
可以是字詞,也可以是圖畫
誘發(fā)RP的實(shí)驗(yàn)范式:
在一般刺激呈現(xiàn)方式中,不論刺激能否被識(shí)別,都會(huì)在500ms內(nèi)誘發(fā)一系列波幅較高的VEP晚成分(VEP-視覺誘發(fā)成分),快速刺激系列法可減弱VEP晚成分而分離出RP
快速刺激序列法:前幾個(gè)刺激不可識(shí)別,每個(gè)257ms,幾個(gè)疊加過了VEP。當(dāng)快速呈現(xiàn)刺激時(shí),VEP更顯著的減弱,一系列不可識(shí)別刺激連續(xù)快速呈現(xiàn)引起ERP是一個(gè)系列的波幅很小的節(jié)律性波動(dòng)。此時(shí)將可識(shí)別刺激穿插與其中呈現(xiàn),由于背景……(后面沒記到,大家自由發(fā)揮吧)
RP的影響因素:
1 刺激的物理特征對(duì)RP的影響:增加刺激落在視網(wǎng)膜上的面積使RP波幅增大,降低刺激的清晰度則延長(zhǎng)RP的潛伏期;改變刺激的呈現(xiàn)位置會(huì)影響RP的頭皮分布:視野上-枕葉下;視野下-枕葉上
2 RP與語(yǔ)義加工的關(guān)系:
RP的波幅隨著刺激接近真字的程度的增長(zhǎng)而逐漸增加,并在刺激時(shí)真字時(shí)達(dá)到最大值;對(duì)隨機(jī)字母串,符合正字法的字母串和真字的敏感性說明RP可能對(duì)語(yǔ)義加工敏感。
內(nèi)容詞誘發(fā)RP在左右半球分布對(duì)稱(動(dòng)名詞);功能詞誘發(fā)RP在左半球有優(yōu)勢(shì)(介連詞)
3 可識(shí)別刺激與北京刺激見差異對(duì)RP的影響:真字為可識(shí)別刺激,分別以假字、非字和亂碼為背景進(jìn)行實(shí)驗(yàn),RP隨著真字與背景之間差異的增大而增高
4 情緒狀態(tài)對(duì)RP的影響:相對(duì)于中性情緒,情緒狀態(tài)下RP波的波幅減小,潛伏期變短
RP的發(fā)生源:頂枕部電極處 PO7,PO8(外側(cè)紋狀體底部,梭狀回和舌回)
N400
Kutas等1980年發(fā)現(xiàn),潛伏期在300~600ms之間的負(fù)波
N400和語(yǔ)義加工:以詞語(yǔ)為實(shí)驗(yàn)材料也會(huì)得到N400,語(yǔ)音和語(yǔ)義啟動(dòng)都會(huì)使N400潛伏期和波幅減少
N400的影響因素:?jiǎn)卧~呈現(xiàn)的速度
單詞的重復(fù)
單詞在句子當(dāng)中的位置
單詞的類型
年齡因素
N400的發(fā)生源:中央頂部電極處,發(fā)生源靠近中央回,包括前梭狀回以及旁海馬回
N400的實(shí)質(zhì):詞匯通達(dá)或者心理表征的自動(dòng)激活;語(yǔ)義整合的詞匯后加工;兩種加工都存在
P600
Prof. Lee Osterhout 1992年發(fā)現(xiàn),潛伏期在500~1000ms的正波,分布在中央頂部電極處,它可能與句法加工有關(guān)。
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